China wird Berichten zufolge zum Jahresende seine erste 28-Nanometer-Lithografiemaschine auf den Markt bringen, was nach Jahren der Unterdrückungs- und Eindämmungsversuche durch die USA einen großen Sprung für die chinesische Chipindustrie bedeutet.

Wie die „Securities Daily“ berichtet, hat sich die Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) voll auf die Entwicklung einer 28-nm-Tauchlithografiemaschine konzentriert. Man könne nun davon ausgehen, dass die erste im Inland produzierte SSA/800-10W-Lithografiemaschine noch bis Jahresende auf den Markt kommen wird.

Dies sei ein großer Durchbruch für die Branche, und es sollen einheimische Chips produziert werden, die den Anforderungen gängiger Geräte entsprechen, sagte Zhang Hong, ein in Beijing ansässiger Analyst der Halbleiterindustrie, am Dienstag.

Quelle: german.china.org.cn